Pvd:(蒸氣)是指通過物理過程將物質從源頭轉移到基底表面的過程。
ALD:原子層沈積。
發展
由於低溫沈積、膜純度和優異的覆蓋性的固有優點，自21世紀開始，ALD(原子層沈積)技術已經應用於半導體制造。DRAM電容器的高k電介質沈積是最先采用這種技術的，但ALD最近已廣泛用於其他半導體加工領域。