cmp設備是什麽意思？

化學機械平坦化設備。根據英漢詞典，cmp是ChemicalMechanicalPolishing的縮寫，是半導體晶圓表面處理的關鍵技術之壹，所以cmp設備就是化學機械平坦化設備。化學機械平坦化設備是目前最常見的半導體材料表面平坦化技術。其工作過程是拋光頭將待拋光晶片表面壓向粗糙拋光墊，通過耦合拋光液腐蝕、顆粒摩擦和拋光墊摩擦實現全局平坦化。